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    性蝕刻液的主要成份：CuCl2.2H2O,HCl,NaCl,NH4Cl,H2O

    酸性氯化銅蝕刻過(guò)程的主要化學(xué)反應(yīng)在蝕刻過(guò)程中，氯銅中的Cu2+具有氧化性，能將板氧化成Cu1+,其反應(yīng)如下：

    蝕刻反應(yīng)：Cu+CuCl2->Cu2Cl2

    形成的Cu2Cl2是不易溶于水的，在有過(guò)量的Cl-存在下，能形成可溶性的絡(luò)合離子，其反應(yīng)如下：

    絡(luò)合反應(yīng)：Cu2Cl2+4Cl-->2[CuCl3]2-

    隨著銅的蝕刻，溶液中的Cl1+越來(lái)越多，蝕刻能力很快就會(huì)下降，直到最后失去效能。為保持蝕刻能力，可以過(guò)溶液再生的方式將Cu1+重新生成Cu2+.保證蝕刻能力.

    蝕刻液的再生：

    再生的原理主要是利用氧化劑將溶液中的Cu1+氧化成Cu2+。

    再生方法一般有以下幾種。

    1）通氧氣或壓縮空氣再生：主要的再生反應(yīng)為：2Cu2Cl2+4HCl+O2->4CuCl2+2H2O

    但此方法再生反應(yīng)速率很低。

    2）氯氣再生：主要的再生反應(yīng)為：Cu2Cl2+Cl2->2CuCl2由于氯氣是強(qiáng)氧化劑，直接通氯氣是再生的最好方法。因?yàn)樗某杀镜停偕俾士?。但是，很難做到使氯氣全部都參加反應(yīng)，如有氯氣溢出，會(huì)污染環(huán)境。故該法要求蝕刻設(shè)備密封。

    3）電解再生：主要的再生反應(yīng)為：在直流電的作用下，在陽(yáng)極：Cu1+->Cu2++e在陰極：Cu1++e->Cu0這種方法的優(yōu)點(diǎn)是可以直接回收多余的銅，同時(shí)又使Cu1+氧化成Cu2+，使蝕刻液得到再生。但是此方法的再生設(shè)備投入較大且要消耗較多的電能。

    現(xiàn)在的酸性蝕刻有兩種：雙氧水系統(tǒng)和氯酸鈉系統(tǒng)，二者的區(qū)別在于是由那種物質(zhì)充當(dāng)氧化劑。

    前者是氧，后者是氯。所以在控制上有一定區(qū)別。